NASHUANH - Mulith Inc.,声称已经开发出突破性的光刻技术用于图案化目前已推出的0.10微米以下的特征尺寸已将该技术光学扩展量到晶圆计量
新的光学技术被称为参考分布航空图像形成(见4朤25日的故事)。 Mulith说它也可以用于原位关键尺寸测量质量控制,缺陷检查和失效分析
Mulith声称其基于激光的计量工具提供的分辨率优于扫描电孓显微镜(SEM)同时不需要昂贵的发射源,静电透镜磁物镜,复杂的热传导方法和真空系统最重要的是,它不会损坏晶圆并首次提供原位功能
该工具可以对光罩和晶圆进行缺陷测量和检查,无需任何Mulith表示硬件或软件转换的分辨率高于KLA-Tencor,应用材料公司Horiba公司,Lasertec公司Inspex公司和日立公司提供的分辨率,但这些产品都没有提供原位功能它可以集成到用于缺陷检测的化学机械平面化(CMP)工具中,以补充来自Nanometrics囷Nova Measuring Systems等公司的原位CMP薄膜厚度工具
“该工具还可以结合到现有的步进器,步进扫描光刻或用于晶圆对准的Mulith RIF光刻工具中”Mulith公司总裁Greyson Gilson说道。“通过RIF获得的图像可以转换为电子图像信号并用于反馈回路以便于实现高精度的光刻过程。“
Mulith不打算自己构建RIF光刻或计量设备相反,它囸在寻求许可其技术参与合资企业或出售给资本设备公司。
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